美國必宜DeBEE終極超高壓微射流納米分散均質設備(劉先生13699703666) 

型號:必宜Micro DB – 氣動臺式實驗機 
此型號的增壓源為氣動,其設計相當緊湊。 

必宜Micro DB主要特點： 
•業內最高使用壓力可達45,000PSI（310MPa）. 
•專利型DeBEE特有的分散均質部件. 
•分散均質部件可自行調控,為您提供廣闊的實驗應用空間. 
•僅需一次制程循環,就可使您的產品達到你所預想的處理目標,無與倫比. 
•最大的持續處理流量為250mL/Min. 
•操作樣品標準量為30mL,但最小可為10mL 
•工作壓力: 
O需要連續且可調的2,000PSI至30,000PSI(14MPa~200MPa)壓力作用時, 您需要提供穩定的干燥的100PSI(0.7MPa)氣源. 
O需要連續且可調的高達45,000PSI(310MPa)壓力作用時, 您需要提供穩定的干燥的150PSI(1.1MPa)氣源. 
•可調背壓： 0~5,000PSI（34.5MPa） 
•配備物料在線冷卻罐. 
•全SUS不銹鋼材質 
•尺寸：長86.5cm x寬35.5cm x高46cm 
•機臺重量：32公斤 

所有必宜DeBEE機臺含有以下主要特點: (劉先生13699703666) 
1. 所有參數皆包含在內:您可以控制壓力,流量,溫度,超聲波效應,剪切,影響和持續時間都可自行調節控制. 
2. 分散效果極佳(通常可把藥物粒徑分散至10-100納米),且粒徑分布窄(narrow down) . 
3. 可不加入助劑,減少困擾; 無污染,產品純度高(利用自身碰撞,不借助珠磨). 
4. 粒徑分布均勻,所得成品移定性度高(25wt% SiO2 80days). 
5. 最小實驗樣本量:10/20mL, 高粘度亦適用(eg. 100,000CPs). 
6. 超高硬度,磨耗性強的粒子亦適用. 
7.操作簡單,拆裝容易,易損件少. 
8. 在線清潔CIP和消毒SIP,完全符合GMP標準和美國FDA標準. 
9. 備齊線性放大機臺(實驗室-中試-工業化大生產). 
10.溫度自動控制,也可以設定溫度. 不論運行多少時間,設備一直可保持恒溫. 

美國必宜DeBEE終極超高壓微射流納米分散均質設備是全球最高壓的45,000PSI(310MPa),所需樣本量最小10/20mL,可自行調節各控制參數的研發生產設備. 
必宜DeBEE其分三大類型:實驗型Nano DB/Micro DB /Mini DB型；中試型DB 2000型；生產型DB 2000P型. 并且實驗型得出的結果能線性放大到生產型,使得生產和實驗的結果保持一致. 希望我們公司的這種設備對你的科研和新產品的開發生產有所幫助. 

美國必宜DeBEE公司*廣州高嘉設備工程有限公司 
劉先生 Mb:13699703666 Tel: 020-85428666 
Email: koga2006@126.com 

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