無限遠光學系統，帶同軸落射照明和偏光裝置，大平臺和升降立柱適宜高大試樣，可用于大工件金相檢測,電子行業大面積硅晶圓,PCB和LCD等。

●  三目五孔：50×-500×,帶分劃目鏡和測微尺.

●  廣角大目鏡WF10×/22, 無限遠平場物鏡5×,10×,20×,50×.

●  儀器基座300*240mm,機械載物臺250*200mm,移動100*100mm.

●  升降范圍120mm,同軸粗微動調焦≥30mm,微調1µm.

●  同軸落射照明,可變孔徑和視場光闌,內切換偏光裝置.

選配：物/目鏡,暗視野,微分干涉,圖像系統,壓平機,金相制樣設備.

配置明暗場物鏡和明暗場照明系統，提高了顯微鏡的分辨率和物像反差，減少眩光干擾，對試樣中的某些不可見夾雜物、透明顆粒、晶界晶粒和固有色彩均能明晰地顯現及進行對比、評級等。

配置微分干涉相襯系統，通過干涉光路的折射使被觀察物產生立體浮雕效果，突出相對層次關系，更清晰地辨別試樣中看不到的或難于判別的一些結構細節或缺陷，DIC相襯圖像清晰，干涉均勻，浮雕感強。

并以DIC微分干涉相襯系統，使暗視野下的清晰圖像，通過干涉光路的折射使被觀察物產生立體浮雕效果，突出相對層次關系，清晰地辨別試樣中看不到的或難于判別的一些結構細節或缺陷，更具有立體浮雕感，DIC相襯圖像清晰，干涉均勻和浮雕感強。